Lámparas EXC
Los sistemas de lámparas EXC de GEW utilizan lámparas de descarga de barrera dieléctrica (DBD) para producir radiación ultravioleta de vacío casi monocromática, normalmente a 172 nm. Esta radiación se utiliza habitualmente para la matificación de los revestimientos superficiales, la modificación de la tensión superficial para mejorar la adherencia o la limpieza de la superficie para las industrias de los semiconductores y la medicina.
Las lámparas GEW EXC pueden fabricarse de 12 a 230 cm y pueden integrarse de forma personalizada para su aplicación específica, incluyendo la provisión de todo el nitrógeno necesario para la inertización y el control. También se integran perfectamente en el sistema más amplio de UV de GEW que puede ser necesario para la gelificación o el poscurado, de forma que GEW puede proporcionar una solución de curado/limpieza integral para su proceso. Nuestros técnicos experimentados también garantizan el cumplimiento riguroso de las normas de seguridad internacionales.
Ventajas de EXC
- Matificación –
- Encendido/apagado de la matificación instantánea
- Revestimientos sin aditivos para aumentar la durabilidad y simplificar el proceso
- Niveles de brillo >2 G.U.
- Totalmente integrado en el sistema UV de pre-gelificación y curación final
- Limpieza –
- Limpieza de gran eficacia en una amplia gama de sustratos de semiconductores
- Sin contacto
- Modificación de la superficie –
- Aumento considerable de la energía de la superficie
- Proceso en frío para materiales sensibles al calor
- Generación de UV de baja energía y alta eficacia (hasta el 40%)
Especificación EXC
| Máxima potencia eléctrica | 5W / cm |
| Pico de longitud de onda | 172nm* |
| Irradiación en el punto focal | 30mW / cm² |
| Longitud máxima | 230cm |
| Sección transversal estándar | 164 mm anchura x 130 mm altura |
| Enfriamiento | N2 / Aire |
| Temperatura máxima de funcionamiento estándar | 40°C (104°F) |
| Humedad máxima estándar | Sin condensación |
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