Fuentes de alimentación
EOS, el desarrollo tecnológico más reciente de GEW, aporta una gran innovación a nuestros sistemas de control y alimentación eléctrica. EOS sustituye la infraestructura de alimentación RHINO de la empresa por una plataforma rediseñada que abarca fuentes de alimentación, electrónica de control, cableado y software de control del sistema UV. No existe compatibilidad retroactiva entre EOS y RHINO.
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Vídeo EOS
Solución de modernización para el usuario final (EOS)
Para los usuarios finales que deseen comprar un nuevo sistema de curado UV, UV LED o Excimer de GEW, su compra incluirá el nuevo sistema de control y alimentación EOS de GEW totalmente integrado.
EOS introduce cabezales de lámpara serializados inteligentes para una telemetría mejorada, cifrado de extremo a extremo de todo el tráfico de comunicaciones y una funcionalidad de monitorización remota mejorada.
Entre sus características estándar se incluyen contadores de horas y reflectores, y la plataforma sigue siendo compatible con la tecnología ArcLED intercambiable patentada de GEW . La fabricación propia del nuevo sistema permite a GEW un control de calidad directo sobre todo el producto.
Especificació
| Fuerza | 9kW |
| Tensión de alimentación nominal | 380-480 V CA 50/60 Hz 3P + E |
| Temperatura de funcionamiento | De 5 a 40 °C (de 41 °F a 104 °F) |
| Humedad de funcionamiento | Sin condensación |
| Cumplimiento | Cumple con las normas de inspección de campo CE y UL. |
| Monitoreo remoto | Disponible con conexión a internet. |
| Compatibilidad de productos GEW | Todo |
| Tipo de compatibilidad del cabezal de la lámpara | Solo inteligente |
| Pila de control: módulos de control | Hasta seis plazas disponibles |
| Protocolos de bus de campo | OPC-UA |
| Soporte técnico de GEW | Completamente integral |
| Garantía | Garantía estándar del sistema: 1 año (ampliable hasta 5 años). |
Beneficios de EOS para los usuarios finales
EOS ofrece una serie de ventajas a los usuarios finales que desean adaptar un sistema de arco UV GEW, LED UV o excímero a su prensa existente. Estas ventajas incluyen:
Solución llave en mano
Aproveche la plataforma de control y alimentación EOS de GEW, que ofrece una solución integral y sin complicaciones, adaptable a todas las necesidades. La plataforma EOS proporciona capacidades avanzadas de control de sistemas UV y herramientas de diagnóstico para el servicio técnico.
Curación inteligente
La plataforma de alimentación EOS es compatible con todos los cabezales de lámparas inteligentes de curado y secado UV de GEW . Los cabezales de lámparas inteligentes y serializados permiten una telemetría y opciones de integración mucho mejores, con facilidad de mantenimiento y compatibilidad con los protocolos de comunicación modernos.
Rack de fuente de alimentación de tamaño mínimo
El compacto armario rack aloja hasta cinco fuentes de alimentación EOS montadas verticalmente y proporciona una refrigeración óptima, protección contra la intemperie y distribución de la alimentación eléctrica. Los armarios son apilables de dos en dos y ocupan un espacio de 106 cm x 115 cm. Las fuentes de alimentación se deslizan dentro del rack y se conectan rápidamente, lo que permite añadir fácilmente más lámparas al sistema en el futuro.
Configuración doble o simple
EOS de doble canal alimenta dos cabezales de lámpara desde una sola fuente de alimentación, lo que permite una configuración más económica y que ahorra espacio. Se mantiene un control de lámpara totalmente independiente, y también está disponible una unidad EOS de un solo canal.
Preparado para ArcLED
ArcLED intercambiable patentada por GEW . De serie, están configuradas para funcionar con ArcLED , lo que permite utilizar la tecnología Arc o LED en la misma posición de la prensa.
Funcionamiento fiable
La plataforma EOS está diseñada para funcionar en entornos de producción estándar, con temperaturas de hasta 40 °C (104 °F). Sus componentes electrónicos cuentan con un recubrimiento especial que los protege de la humedad y los contaminantes presentes en el aire. Su avanzado diseño electrónico protege el sistema UV de las anomalías eléctricas comunes , y un modo de apagado seguro garantiza una mínima interrupción en caso de una parada.
Solución del fabricante de equipos originales
Para los fabricantes de equipos originales (OEM) que buscan integrar los sistemas de curado UV, UV LED o Excimer de GEW en sus prensas, EOS ofrece mayor flexibilidad en su compra. A diferencia de los sistemas RHINO de la generación anterior, ahora los OEM pueden especificar una de dos opciones:
- El sistema Alpha es una solución integral llave en mano que incluye el sistema de control, el armario de alimentación y el sistema de refrigeración de GEW.
- El sistema Beta es un sistema modular sencillo en el que un fabricante de equipos originales (OEM) puede adquirir como mínimo 1 cabezal de lámpara, 1 fuente de alimentación y 1 cable, pero los componentes restantes, incluido el sistema de control, pueden provenir de otros proveedores si el OEM así lo desea.
A pesar de la flexibilidad de la oferta OEM, la base de EOS se mantiene. Incorpora cabezales de lámpara serializados inteligentes para una mejor telemetría e integración OEM, cifrado de extremo a extremo de todo el tráfico de comunicaciones y una funcionalidad de monitorización remota mejorada. Las características estándar incluyen contadores de horas y reflectores, y la plataforma sigue siendo compatible con la tecnología ArcLED intercambiable patentada de GEW. La fabricación propia del nuevo sistema permite a GEW un control de calidad directo sobre todo el producto. Actualmente, el sistema EOS de GEW solo está disponible con una fuente de alimentación de 9 kW.
EOS se ofrece como una solución integral llave en mano para fabricantes de equipos originales (OEM) o como un sistema modular y flexible.
Especificación
| Especificación de control | Alpha | Beta |
|---|---|---|
| Fuerza | 9kW | 9kW |
| Tensión de alimentación nominal | 380-480 V CA 50/60 Hz 3P + E | 380-480 V CA 50/60 Hz 3P + E |
| Temperatura de funcionamiento | 5 a 40 °C (41 °F a 104 °F) | 5 a 40 °C (41 °F a 104 °F) |
| Humedad de funcionamiento | Sin condensación | Sin condensación |
| Cumplimiento | Cumple con las normas de inspección de campo CE y UL. | Cumple con las normas de inspección de campo CE y UL. |
| Monitoreo remoto | Disponible con conexión a internet. | No disponible |
| Compatibilidad de productos GEW | Todo | Limitado |
| Tipo de compatibilidad del cabezal de la lámpara | Solo inteligente | Solo inteligente |
| Pila de control: módulos de control | Hasta seis plazas disponibles | No disponible |
| Protocolos de bus de campo | OPC-UA | OPC-UA |
| Soporte técnico de GEW | Completamente integral | Hay varios niveles disponibles |
| Garantía | Garantía estándar del sistema: 1 año (ampliable hasta 5 años). | Garantía estándar del sistema: 1 año (ampliable hasta 5 años). |
Beneficios de EOS para los fabricantes de equipos originales (OEM)
Energía flexible
Aproveche la flexibilidad del control de GEW: elija entre un sistema de control totalmente cableado o uno totalmente controlado por software. También es posible combinar ambos, lo que ofrece una gran versatilidad y la solución perfecta para cada necesidad.
Curación inteligente
La plataforma de alimentación EOS es compatible con todos los cabezales de lámparas inteligentes de curado y secado UV de GEW . Los cabezales de lámparas inteligentes y serializados permiten una telemetría y opciones de integración mucho mejores, con facilidad de mantenimiento y compatibilidad con los protocolos de comunicación modernos.
Rack de fuente de alimentación de tamaño mínimo
El compacto armario rack aloja hasta cinco fuentes de alimentación EOS montadas verticalmente y proporciona una refrigeración óptima, protección contra la intemperie y distribución de la alimentación eléctrica. Los armarios son apilables de dos en dos y ocupan un espacio de 106 cm x 115 cm. Las fuentes de alimentación se deslizan dentro del rack y se conectan rápidamente, lo que permite añadir fácilmente más lámparas al sistema en el futuro.
Configuración doble o simple
EOS de doble canal alimenta dos cabezales de lámpara desde una sola fuente de alimentación, lo que permite una configuración más económica y que ahorra espacio. Se mantiene un control de lámpara totalmente independiente, y también está disponible una unidad EOS de un solo canal.
Preparado para ArcLED
ArcLED intercambiable patentada por GEW . De serie, están configuradas para funcionar con ArcLED , lo que permite utilizar la tecnología Arc o LED en la misma posición de la prensa.
Funcionamiento fiable
La plataforma EOS está diseñada para funcionar en entornos de producción estándar, con temperaturas de hasta 40 °C (104 °F). Sus componentes electrónicos cuentan con un recubrimiento especial que los protege de la humedad y los contaminantes presentes en el aire. Su avanzado diseño electrónico protege el sistema UV de las anomalías eléctricas comunes , y un modo de apagado seguro garantiza una mínima interrupción en caso de una parada.
Los sistemas de arco UV y LED de GEW se alimentan de las fuentes de alimentación patentadas de RHINO y RLT. Disponibles en una gama de tamaños de hasta 27 kW, son diseñados y fabricados de forma personalizada por GEW, exclusivamente para alimentar nuestros sistemas de UV. Cumplen con los más estrictos requisitos de seguridad internacionales (incluyendo el listado ETL de todas las unidades RHINO), están controlados a través de Internet 24/7 y pueden adquirirse con una garantía de hasta 5 años, algo sin precedentes en el sector.
Todas las fuentes de alimentación están equipadas con la tecnología ArcLED de GEW, lo que permite que tanto el arco UV como el LED sean alimentados de forma intercambiable por la misma unidad. Cada sistema RHINO y RLT en el campo está preparado para funcionar con LED, sólo la lámpara LED y el enfriador son necesarios para hacer este cambio.
El diseño robusto y el apagado seguro protegen al RHINO de una amplia gama de problemas eléctricos comunes y se ha demostrado que funciona durante muchos años en los entornos más duros del planeta. La gestión inteligente de la energía equilibra el consumo de la red y reduce al mínimo la distorsión armónica, lo que conduce a una reducción de la demanda de energía y al retorno más rápido de la inversión.
RHINO es la fuente de energía más avanzada y fiable del sector. Sepa más en nuestros folletos de productos a continuación:
Las fuentes de alimentación de GEW están alojadas en un estante de RHINO que proporciona la distribución de la energía de la red, la refrigeración por aire filtrado y varias funciones de control. Los cables de alimentación y comunicación van desde el gabinete hasta las lámparas UV y los equipos periféricos situados en la prensa.
Los estantes de RHINO son sumamente compactos y se pueden apilar 2 de alto permitiendo hasta 24 lámparas en una superficie de 1,8 m2. Están diseñados para un bajo mantenimiento e instalaciones rápidas y sencillas.
Sepa más sobre el concepto de estante GEW RHINO a continuación:
*Este folleto está en inglés
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