Monitores UV multipunto GEW instalados en cabezales de lámpara NUVA2

Control de UV multipunto (mUVm)

Medición continua en línea de la salida de los rayos UV. Consiga una inspección UV al 100% y un control sin precedentes sobre su proceso.

Control de UV multipunto (mUVm)

El curado efectivo de la tinta depende de una salida correcta y constante de la lámpara UV y del sistema reflector. Con el tiempo, la salida de una lámpara de arco de mercurio se degrada y se vuelve menos uniforme a lo largo de su anchura, lo que debe ser gestionado con diligencia para evitar el riesgo de que se envíe un producto mal acabado. El control de los niveles de curado o de la producción de rayos UV siempre fue un proceso largo y algo subjetivo, pero con el control de rayos UV multipunto de GEW (mUVm) es ahora mucho más fácil y más preciso. La solución mUVm es un conjunto de uno o hasta cinco sensores UV de lámpara que controlan continuamente la intensidad de cada lámpara UV en un sistema.

Una sencilla interfaz de usuario muestra la salida de rayos UV de las lámparas en la pantalla táctil de GEW y las alarmas pueden configurarse para advertir cuando ésta es demasiado baja o demasiado alta. Con hasta un máximo de cinco sensores por lámpara que controlan una vez por segundo, ahora se puede lograr un control sin precedentes sobre el proceso de curado por UV, a lo largo de todo el proceso y durante toda la cadena de producción.

Las ventajas de esto incluyen lo siguiente:

  • Es fácil ver cuando las lámparas UV llegan al final de su vida útil
  • Alcanzar el 100% de inspección UV, con un registro documentado para cada lote de producción
  • Mejorar el cumplimiento de las normas europeas de envasado en contacto con alimentos, como por ejemplo:
    • Reglamento marco (CE) 1935/2004 artículo 3
    • Reglamento de buenas prácticas de fabricación (CE) 2023/2006
    • Reglamento sobre los plásticos (UE) 10/2011, Ordenanza suiza SR 817.023.21)
  • Ahorrar energía reduciendo la potencia de la lámpara sin arriesgar un producto mal curado
  • Crear un certificado UV de curación para cada lote grabando salidas UV en vivo para cada lámpara

Para garantizar que las lecturas se mantengan constantes, la purga de aire comprimido filtrado impide la entrada de suciedad y polvo para un funcionamiento fiable a largo plazo y un conjunto óptico fácilmente extraíble permite una limpieza suplementaria si es necesario.

Cada sensor se puede solicitar en el rango espectral de banda ancha o UVC y se puede instalar en todos los sistemas de lámparas de arco GEW con fuentes de alimentación RHINO o RLT.

GEW multi-point UV monitor_XSection
mUVm-NormalisedSpectralResponsivity

*Este folleto está en inglés.


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