GEW ha anunciado el lanzamiento de su innovadora plataforma de control y alimentación EOS.
EOS sustituye la reconocida infraestructura RHINO Power de GEW, ofreciendo a los usuarios una amplia gama de ventajas de producción. El rediseño completo de las fuentes de alimentación, la electrónica de control, el cableado y todo el software de control del sistema UV de GEW aporta eficiencia y modularidad, mientras que la fabricación propia garantiza el control de calidad y la experiencia. Además, sus cabezales de lámpara inteligentes y serializados permiten una telemetría y opciones de integración OEM mucho mejores, con facilidad de mantenimiento y compatibilidad con los protocolos de comunicación modernos.
Con EOS, las nuevas funciones de generación de informes, como los contadores de horas y reflectores, vienen de serie, junto con una funcionalidad mejorada de monitorización remota. La plataforma EOS sigue siendo totalmente compatible con la tecnología ArcLED intercambiable y patentada de GEW, e introduce el cifrado de extremo a extremo de todo el tráfico de comunicaciones.
Robert Rae, director general de GEW, comenta: «EOS transformará por completo la funcionalidad, la capacidad y la integración de nuestros sistemas de curado UV. Ofrece una experiencia de usuario más fluida y ergonómica, y su excelente conectividad permite integrar una gran variedad de opciones de control y E/S, generando más telemetría y datos para un análisis más completo».
Aquí encontrará más información sobre las fuentes de alimentación EOS.
Y aquí podrá obtener más información sobre el sistema de control EOS.
